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科研级暗场金相显微镜

简要描述:科研级暗场金相显微镜WTJ-52BD适用于薄片试样的金相、矿相、晶体、硅片、电路基板、FPD等结构分析和研究,或用于观察材料表面特性,如:划痕、裂纹、喷涂的均匀性等分析研究。是金属学、矿物学、精密工程学、电子学、半导体工业、硅片制造业、电子信息产业等观察研究的理想仪器。总放大倍数:50-800X

  • 产品型号:WTJ-52BD
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2021-08-15
  • 访  问  量:27

产品介绍

产品概述:

科研级暗场金相显微镜WTJ-52BD配有大范围移动的载物台、采用优良的无限远光学系统与多功能、模块化的设计理念,带有偏光装置、暗场装置,可实现偏光观察、暗场观察等功能。紧凑稳定的高刚性主体,充分体现了显微镜操作的防振要求。符合人机工程学要求的理想设计,使操作更方便舒适,空间更广阔。适用于薄片试样的金相、矿相、晶体、硅片、电路基板、FPD等结构分析和研究,或用于观察材料表面特性,如:划痕、裂纹、喷涂的均匀性等分析研究。是金属学、矿物学、精密工程学、电子学、半导体工业、硅片制造业、电子信息产业等观察研究的理想仪器。总放大倍数:50-800X

◆产品特点:
1、采用了先进的无限远光路设计,提供了好的光学系统。
2、采用大视野目镜和明暗场长距平场物镜,视场平坦,成像清晰。
3、配置了偏光、暗场装置、可选配微分干涉装置,拓展了功能。
4、整机采用了防霉处理,保护了镜头,延长了仪器的使用寿命。
5、两路光路自由切换输出,一路用于观察,一路连接摄像装置。
6、配有大范围移动的移动载物台,适合对大型工件观察和研究。
◆典型应用:
1、电子工业制造业对硅片、电路基板、FPD、PCB板、芯片检验。
2、观察材料表面的某些特性,3、分析金属、矿相内部结构组织。

科研级暗场金相显微镜WTJ-52BD规格参数:

一、显微镜参数:

序号

名称

技术参数

01

平场目镜

大视野WF10X(φ22mm)

02

明暗平场物镜

无限远长距PLL 5X/0.10、10X/0.25、20X/0.40、50X/0.60、80X/0.75

03

总放大倍数

50X-800X

04

观察头

三目,铰链式30°倾斜可360°旋转

05

转换器

五孔(内向式滚珠内定位)

06

粗微调焦机构

粗微动同轴调焦,带锁紧和限位装置,微动格值:2μm.

07

载物台

双层机械移动式(尺寸:280mmX270mm,移动范围: 204mmX204mm)

08

光瞳距离

53-75mm

09

落射照明系统

12V50W卤素灯, 亮度可调

内置视场光栏、孔径光栏、(蓝、绿、黄、磨砂玻璃)滤色片转换装置,

10

暗场偏光装置

推拉式起偏振器 暗场可移出视场

11

仪器重量

净重11.0公斤 毛重12.5公斤

12

仪器尺寸

仪器尺寸42X45X45(cm)  包装尺寸45X50X50(cm)

二、目镜参数:

型号
T ype

放大倍率
Magnification

视场直径(mm)
F.O.V

外径(mm)
Tube diameter

WF10X/18

10X

φ22

φ30

三、物镜参数:

放大倍率 Magnification

数值孔径 N.A

分辨率 R(μm)

工作距离WD(mm)

共轭距离Conjugate(mm)

齐焦距离Parfocus(mm)

盖玻片厚度CoverGlass(mm)

5X

0.12

2.30

9.70

195

45

0.17

10X

0.25

1.10

9.30

195

45

0.17

20X

0.40

0.70

7.23

195

45

0.17

50X

0.70

0.55

2.50

195

45

0.17

80X

0.80

0.42

1.25

195

45

0.17


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